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產(chǎn)品詳情
天津福業(yè)動(dòng)力機(jī)械科技發(fā)展有限公司
滑塊R182122366/R182452366/R185362366
普通鍍鉻液中Cr3+的含量大約在2~5g/L,也有資料是鉻酸含量的1%~2%,三價(jià)鉻的允許含量與鍍液的類型、工藝以及鍍液中雜質(zhì)的含量有關(guān)。當(dāng)Cr3+濃度偏低時(shí),相當(dāng)于根離子的含量偏高時(shí)出現(xiàn)的現(xiàn)象。陰極膜不連續(xù),分散能力差,而且只有在較高的電流密度下才發(fā)生鉻的沉積;當(dāng)Cr3+濃度偏高時(shí),相當(dāng)于根離子的含量不足,陰極膜增厚,不僅顯著降低鍍液的導(dǎo)電性,使槽電壓升高,而且會(huì)縮小取得光亮鍍鉻的電流密度范圍,嚴(yán)重時(shí),只能產(chǎn)生粗糙、灰色的鍍層。當(dāng)Cr3+的含量偏高時(shí),也用小面積的陰極和大面積陽極,保持陽極電流密度為1~1.5A/dm2電解處理,處理時(shí)間視Cr3+的含量而定,從數(shù)小時(shí)到數(shù)晝夜。鍍液溫度為50~60℃時(shí),效果較好
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當(dāng)電流密度不變時(shí),電流效率隨溫度升高而下降;若溫度固定,則電流效率隨電流密度的增大而增加。然而,當(dāng)鉻酸酐與根離子比值減小時(shí),變化相應(yīng)變小。因此鍍硬鉻時(shí),在滿足鍍層性能的前提下,通常采用較低的溫度和較高的陰極電流密度,以獲得較高的鍍層沉積速度。溫度一定時(shí),隨電流密度增加,鍍液的分散能力稍有改善;與此相反,電流密度不變,鍍液的分散能力隨鍍液溫度升高而有一定程度的減小。生產(chǎn)上一般采用中等溫度(45~60℃)與中等電流密度(30~45A/dm2)以得到光亮和硬度較高的鉻鍍層。盡管鍍?nèi)」饬铃儗拥墓に嚄l件相當(dāng)寬,考慮到鍍鉻液的分散能力特別差,在形狀復(fù)雜的零件鍍裝飾鉻或硬鉻時(shí),欲在不同部位都鍍上厚度均勻的鉻層,必須嚴(yán)格控制溫度和電流密度。當(dāng)鍍鉻工藝條件確定后,鍍液的溫度變化控制在土(1~2)℃之間。